3.1 一般规定
3.1.1 电子工业纯水系统应根据电子产品生产工艺要求，合理解定纯水制备系统的规模和供水水质。
3.1.2 电子工业纯水系统制水流程和设备的选择应根据对纯水水质的要求、原水水质以及运行管理水平，并结合处理效果、原水的利用率、节能、环保等因素，经技术经济比较确定。
3.1.3 电子工业纯水系统应根据最终产品水水质要求选择简捷、有效的处理流程和可靠的处理设备。
3.1.4 纯水站的产水量应根据各类产品水量加系统自用水量确定。
3.1.5 电子工业纯水系统设计前应取得全部可利用水源的水质全分析资料，并应选择有代表性的水质分析资料作为设计依据。水质全分析报告格式应符合本规范附录A的要求。水质资料的获取应符合下列要求：
1 水源为地表水时宜取得全年逐月水质资料。
2 水源为地下水时宜取得全年每季的水质资料。
3 当无法得到逐月或逐季资料时，应掌握水质随季节的变化规律。
3.1.6 对可能受到海水倒灌或其他因素影响的水源，应掌握由此而引起的水质变化情况。对于来自生产过程中的回用水，应掌握其来源与组成。
3.1.7 电子工业纯水制备系统应由预处理、脱盐及深度处理和精处理组成，各阶段达到的目标应符合下列要求：
1 预处理阶段水质应满足脱盐装置进水水质的要求。
2 脱盐及深度处理阶段产水水质应接近最终产水水质要求。
3 精处理阶段应保证不间断地满足最终产水水质、水量和水压等要求。
3.1.8 系统设计中每个水处理装置的出水水质应满足后续处理装置的进水水质要求，水处理装置的进水水质应根据制水设备的要求确定。水质要求较高或有多项水质指标时尚应符合最终水质的要求。
3.1.1 纯水制备系统的规模和供水水质直接影响纯水系统的投资大小，应根据生产需要合理确定。
关于电子工业纯水水质指标，不同电子产品、不同生产工艺和不同厂家都会提出不同的要求，目前国际比较通用的标准是美国材料试验学会(ASTM)的标准ASTM D5127-07(见表1)，该标准主要是针对不同线宽的集成电路生产，有较大参考价值。
国内的标准只有《电子级水》GB/T 11446. 1-1997，水质要求较低，并不直接针对电子产品，只适用于水质要求较低的电子产品。
3.1.2 确定纯水制备流程和选择处理设备是设计的关键，影响因素也是多方面的，不应该只强调某一方面，而应该各种因素综合考虑，选择最佳的方案。
3.1.3 条文中强调简捷和有效非常重要，因为每个处理单元对于水质处理来说除了正面作用外，会有或多或少的负面作用，例如离子交换树脂具有良好的除盐作用的同时会有溶解有机物和碎颗粒产生。
3.1.5 本条强调全部可利用水源，包括自来水以外的再生水、甚至废水处理站处理后的水，体现面对水资源匮乏，设计中不能只盯着自来水，而忽略其他水源。
掌握可靠的水源水质资料是做好纯水处理系统设计的先决条件，附录B列出了水质分析项目，当系统中采用反渗透时应检测水中的锶、钡等项目，当采用再生水时应根据水质特点增加一些针对性的理化检测项目。
3.1.6 海水倒灌是沿海地区(例如上海地区)在咸潮期的普遍现象，由于水质的变化对纯水处理特别是前级的预处理和初级处理冲击很大，因此应切实掌握因海水倒灌引起的水质变化，采取有效的对策。见表2。
3.1.7 电子工业纯水制备系统的三个阶段的划分是多年经验的科学总结，电子工业在电子管的阶段对水质要求低，基本的手段为离子交换，基本没有预处理和抛光处理。随着纯水水质的提高，在脱盐系统后出现了精处理(抛光)阶段；随着反渗透在系统中的出现，其运行关键是保证进入反渗透的水质，形成了预处理系统。条文中明确了各个处理阶段的基本要求。见图1。
3.1.8 纯水制备系统中保证每个处理单元进水的水质非常重要，是长期稳定运行的关键。特别是电子工业纯水系统中常用的反渗透和电除盐，其运转的成败大都在于是否能保证其进水水质要求。无数事例证明，反渗透的关键是进水的污染指数，电脱盐的关键是进水的硬度。当然表3. 2. 1中所列的进水水质指标都是重要的。电渗析在电子工业纯水系统中已很少使用，其进水指标仅供参考。
