4.2 洁净室（区）环境监控设计
4.2.1 根据工艺要求，应对洁净室（区）的空气参数进行监视、测量和记录。
4.2.2 洁净室（区）的监控系统与净化空调的监控系统宜合用，或采用通信的方式进行数据共享。
4.2.3 多个洁净室（区）采用一套监控系统时，应根据最严格的洁净室（区）的温度和湿度要求选择控制系统的精度。
4.2.4 洁净室（区）内外的压差检测，宜采用压差变送器监测。
4.2.5 洁净室（区）安装有过滤器时，宜具有过滤器压差报警功能。
4.2.6 传感器宜对化学物质沉积采取防护措施或具备自洁功能。
4.2.1 对温度、湿度、露点温度、压差、洁净度、空气成分等全部或部分空气参数进行监视、测量和记录，并及时报警，维持洁净环境，满足工艺生产的要求。
对于生产新型显示器件及半导体器件的洁净室环境，悬浮分子污染物（Airborne Molecular Contaminants，AMC）的控制越来越重要。国际半导体设备与材料协会（Semiconductor Equipment and Materials International，SEMI）的标准根据化学品的特性，将洁净室中的空气污染物分为酸（Molecular Acids，MA）、碱（Molecular Bases，MB）、可凝聚物（Molecular Condensables，MC）和掺杂物（Molecular Dopants，MD）。
4.2.2 系统合用便于统一管理，保证数据传输的可靠、及时；如分开设置，需采取措施保证不同监控系统间数据通信的可靠、及时。
4.2.3 在同一栋生产厂房内，工艺段对洁净环境的温度、湿度、压力要求不同，但控制系统共用时，控制系统的选择应满足最严格的要求。
4.2.6 个别生产工艺段有化学沉积现象，化学物质沉积在敏感元件处时会影响测量精度，严重的会使传感器失去功能，因此，要采取适当的防护措施。
- 上一节：4.1 一般规定
- 下一节：4.3 供暖、通风与空气调节系统监控设计
