多晶硅工厂设计规范 GB51034-2014
附录C 主要房间空气洁净度、温度、湿度
表C 主要房间空气洁净度、温度、湿度
注：腐蚀清洗室主要为生产半导体级多晶硅免洗料设置，在清洗设备上设置层流罩，保证在设备内部空气洁净度达到5级。
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