硅集成电路芯片工厂设计规范 GB50809-2012
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1 总则

1.0.1 为在硅集成电路芯片工厂设计中贯彻执行国家现行法律、法规,满足硅集成电路芯片生产要求,确保人身和财产安全,做到安全适用、技术先进、经济合理、环境友好,制定本规范。
1.0.2 本规范适用于新建、改建和扩建的硅集成电路芯片工厂的工程设计。
1.0.3 硅集成电路芯片工厂的设计应满足硅集成电路芯片生产工艺要求,同时应为施工安装、调试检测、安全运行、维护管理提供必要条件。
1.0.4 硅集成电路芯片工厂的设计,除应符合本规范外,尚应符合国家现行有关标准的规定。
条文说明
    本规范为硅集成电路芯片工厂设计的国家标准,适用于各种类型硅集成电路芯片工厂的新建、扩建和改建设计。
    由于硅集成电路芯片产品种类较多,技术发展迅速。为适应不同技术水平芯片生产对于环境的需要,本规范对于工艺、总体、建筑与结构、防微振、冷热源、给排水与消防、电气、工艺相关系统、空间管理和环境安全卫生等方面制定工程设计中应遵循的相关规定,确保工程设计做到安全适用、技术先进、经济合理、环境友好。
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