6 工艺设计
6.0.1 电磁波暗室的工艺区划应满足暗室体型尺寸、暗室与功能性房间之间的相对位置要求。
6.0.2 暗室应与测控间、设备间、试验间等相邻。
6.0.3 暗室开门位置不宜在主反射区。
6.0.4 暗室布局宜自建筑的底层开始。
6.0.5 暗室体型宜选择内壁对电磁波反射路径既少又弱、试验操作安全可靠、结构简单的体型。
6.0.6 暗室内有两套或以上功能测试系统时，其体型和尺寸除应满足各测试系统的测量技术要求外，还应满足系统间相互耦合的隔离要求。
6.0.7 长方体暗室尺寸应符合下列规定：
1 内壁长度L应按下式计算：
L≥L1＋L2＋L3＋L4 （6.0.7-1）
式中：L1——测量距离（m），按表6.0.7计算；
L2——暗室内测量系统设备和受试设备在测试中，沿暗室测量纵轴方向所占据的最大尺寸之和（m）；
L3——为满足运输、维护及电磁辐射性能要求，沿测量纵轴方向增加的长度；
L4——暗室两端墙壁吸波材料沿测量纵轴方向的高度和（m）。
表6.0.7 L1计算
2 内壁宽度W应按下式计算：
W＝W1＋W2＋W3 （6.0.7-2）
式中：W——内壁宽度（m），不宜小于0.87L1；
W1——暗室内测量系统设备和受试设备在测试中，沿暗室宽度方向所占据的最大尺寸（m）；
W2——满足运输、维护和辐射特性需要，沿暗室宽度方向的空间尺寸（m）；
W3——暗室两侧墙壁吸波材料高度的总和（m）。
3 内壁高度H应按下式计算，并应满足辐射特性要求：
H＝H1＋H2＋H3 （6.0.7-3）
式中：H——内壁高度（m），对于1-1、2-1、2-2、3-2类暗室，不宜小于0.87L1；
H1——测量系统设备或受试设备的最大高度（m）；
H2——设备上部安装空间尺寸（m）；
H3——暗室顶部吸波材料高度（m）。
6.0.8 锥体暗室尺寸设计应符合下列规定：
1 暗室静区尺寸不应小于待测天线尺寸。
2 暗室长方体部分宽度和高度应相等，不应小于暗室静区尺寸的3倍。
3 暗室长方体部分长度不应小于暗室宽度和主墙吸波材料高度的和。
4 锥顶角可选取20°～22°。
5 根据本条第1款～第4款设计的锥形暗室，测量距离L1应满足本规范表6.0.7的远场条件。
6 6GHz及以上频段的锥形暗室，应符合自由空间电波传播幅度与相位的均匀性要求。
6.0.9 正多边柱体暗室尺寸应符合下列规定：
1 内壁内切圆半径R应按下式计算：
R≥L1＋R2＋R3＋R4 （6.0.9-1）
式中：L1——测量距离，按本规范表6.0.7计算。对于1-1、2-1、3-2类远场测量暗室，当天线口面内电磁波相位偏差要求小于或等于λ/8时，K值取2。对于2-2类暗室，K值可小于2；
R2——测量系统设备与受试设备沿半径方向的长度之和；
R3——满足运输、维护和辐射特性需要，在半径方向的空间尺寸；
R4——吸波材料的总高度。
2 高度应按本规范式（6.0.7-3）计算。
6.0.10 雷达截面紧缩场微波暗室（3-1类暗室）尺寸，应与要求的静区尺寸、测量系统布局、操作维护空间相协调匹配。
6.0.11 除本规范表4.0.1中1-2、1-3、2-2、3-1、3-2、4-1类暗室测量系统在高度方向布局另有要求外，其他暗室内部测量系统应对称布局。
6.0.12 暗室静区范围尺寸应大于受试设备试验状态中所覆盖的区域。
6.0.1 不同暗室的体型尺寸差异大，各个功能性房间要求和组成不一，并且相对位置关系要求严格。因此，建筑设计平面布局应以暗室为核心展开，既要保证暗室体型和尺寸要求，又要保证各功能性房间的相对位置关系要求，才能够实现暗室功能和技术性能，有利于运行操作安全、方便，建筑才能够给暗室建设合理地支撑。
6.0.3 主反射区是影响暗室静区静度的关键区域。如在主反射区开门，由于结构原因，在门与墙壁处，既容易造成电磁波反射程度不一致的背景差异，又会增加反射程度，降低静区静度。
6.0.6 当暗室内部有多套测量系统时，由于各测量系统设备之间的电磁耦合作用，会对测量造成相互间的干扰。因此，暗室体型尺寸应留有空间隔离或其他隔离方式所需要的空间，避免因测量系统之间的较强耦合，造成测量不确定度的恶化。
6.0.7 随着电磁波入射角的增加，电磁波吸收材料吸收性能会下降。通过控制暗室内壁宽度W和高度H，使电磁波在壁面上产生的反射不因入射角度过大，而有所快速明显增加。
6.0.11 1-2、1-3、2-2、3-1、3-2、4-1类暗室测量系统在高度方向布局需要考虑设备安装的实际需求。
- 上一节：5.2 总体方案
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