3.5 特殊水质指标的技术措施
3.5.1 纯水水质对微粒、总有机碳、细菌、溶解氧、二氧化硅及硼等特殊指标有要求时，系统的各个处理单元的设置中除应满足后续设备的进水水质要求外，还应满足对特殊指标的处理要求。
3.5.2 纯水水质对TOC有要求时，应根据水质要求采用下列措施：
1 在初级处理系统中应设置反渗透装置。
2 要求TOC小于20μg/L～50μg/L时，应设置紫外线除有机物装置。
3 应采用低TOC析出的离子交换树脂、管道、阀门及设备材料。
3.5.3 纯水水质含有溶解氧指标时，系统中应设置脱氧装置，其后所设的水箱均应采取氮封措施。脱氧装置宜采用膜脱气，并应根据水质要求经技术经济比较确定采用一处脱气处理或多处脱气处理。
3.5.4 最终微粒粒径要求不小于0. 1μm时，应在精处理阶段设置微孔过滤，要求小于0. 1μm时，宜设置超滤。
3.5.5 产品水水质指标有二氧化硅含量要求时，系统设计应采取凝聚过滤、活性炭吸附、微滤、超滤、反渗透、电脱盐、离子交换等除硅措施。系统中的强碱阴离子交换器和混合床宜按出水硅含量控制交换终点，阴离子交换树脂再生碱液宜加热，加热温度可为35℃～50℃。
3.5.1、3.5.2 纯水水质指标有对微粒、总有机碳、细菌、溶解氧和二氧化硅等非电解质或弱电解质要求是电子工业纯水的独有的突出特点。它不同于只有脱盐要求的纯水系统，是一个严密的系统工程。某个处理单元对于去除某种物质有特殊的效果，但有可能产生新的污染物，降低了另外的水质指标(例如离子交换单元降低了电解质的含量，会增加溶解有机物和微粒、最终的膜过滤单元降低了水中的微粒，但有可能产生新的微量电解质降低水的电阻率等，水箱、水泵和管道阀门的反作用更是显而易见的)。因此要求设计中准确把握处理过程中各项水质参数的变化，避免或减少处理单元的反作用效应。
采用低TOC析出的离子交换树脂主要是在抛光混床内采用特殊加工的树脂(例如DOW的MR-3UPW均粒抛光树脂、R&H的UP6040抛光树脂等)。
