2 术语

2.0.1  由暗室作为主要房间，与其他用房、测量系统、配套设施等所组成的电磁波暗室，是受试设备电磁性能测试的实验室。暗室的功能和技术水平决定了电磁波暗室的能力。

    暗室内部指定的区域，即受试设备性能测量应处于的区域，称“静区”（或“测试区”）。在此区域内的电磁环境，包括所要求电磁信号和限定的电磁背景杂波，取决于采用的测量系统技术以及受试设备测试项目内容对测试结果不确定度的要求。能够实现其要求的电磁环境则主要是依赖于暗室的型体和尺寸、采用的吸波技术（或有屏蔽要求的屏蔽技术）、测量系统技术和内部场地布局等。

2.0.2  所有电磁波暗室的功能性房间均应包括测控间。此外，还可根据暗室的类别、测量系统和试验项目内容不同，包括不同的设备间，以及受试设备进行不同性能试验的试验间。设备间一般包括馈源间、功放间、负载间、信号间等。

2.0.4  暗室电磁背景杂波主要是暗室内部各种界面对电磁波信号所产生反射和散射的相干杂散信号，以及外界泄漏到暗室内的电磁噪声。这些杂波存在会对暗室内试验测量的结果造成不利影响。

2.0.5  暗室静区由位置、范围、静区内的电磁信号性能和静区静度等四个要素构成。暗室静区是暗室工程建设的最核心内容。对于已建成的暗室，随着受试设备的工作频率、尺寸大小和试验状态、测量项目内容和不确定度的要求、采用的不同测量系统，暗室静区四个要素的量值是不一样的。对于待建暗室，应根据上述受试设备的不同内容和要求，设计暗室型体和尺寸、布局测量系统，采用合理的吸波和屏蔽技术，满足暗室静区四个要素的不同量值要求。

2.0.6  静区范围内电磁背景杂波是指落入静区内的不利于测试的电磁波能量。包括测试信号被暗室内各种物体界面反射和散射到静区的相干杂散测试信号，以及外界泄漏到暗室静区的电磁噪声。两者的总合成电平是电磁背景杂波。

2.0.7  对静区内电磁波信号的要求，主要是幅度均匀性和相位一致性。对其要求既取决于测试项目内容，又取决于系统分配给电磁波信号传播对受试设备性能测量不确定度的贡献程度。因此，对静区电磁信号特性的具体要求应根据项目不同而异。

2.0.8  测试信号电磁波在暗室内壁界面处产生的反射如指向静区，则在此反射处的一定区域范围内大部分能量反射到静区。此主要反射区域，通常以较低阶数的菲涅尔区域所包围的范围界定。

2.0.9  在满足电磁波远场区最小距离要求条件下，被测对象天线口面横向尺寸范围内的电磁场波前分布，能够满足相位误差要求。一般情况下，当需要满足球面波前相位偏离π/8要求的情况下，远场最小距离应大于2D²/λ。其中，D为天线口面有效横向尺寸，λ为工作波长。

2.0.10  近场区包括辐射近场区和电抗性近场区。其中辐射近场区，其范围介于电抗性近场区范围（在λ/2π以内）和最小距离远场区范围（2D²/λ）之间。暗室工程的近场区是指辐射近场区，一般在3λ～10λ范围内，需满足大于λ/2π且小于2D²/λ的要求。

2.0.11  产生紧缩场的测量系统，一般常用高精度的单反射面天线系统或高精度的双反射面天线系统。

2.0.13  影响交叉极化隔离度的因素有多种，主要有系统设备加工精度、装配和安装误差、测量技术误差、传输环境产生的误差等。作为暗室工程，注重于传输因素对交叉极化隔离度的影响程度。

2.0.14  电磁波在不同路径传输中的能量衰减程度，是与传输介质特性、传输路径长短、电磁波频率等因素密切相关的。

2.0.15  辐射功率密度的单位，在暗室工程中根据使用领域的不同，常采用dBkW/㎡、dBmW/㎡、dBmW/c㎡、dBμW/c㎡。

2.0.16  电磁波吸收材料根据应用场合和性能要求的不同，其结构形式、尺寸、材质多种多样。在暗室工程中应该合理选择。

2.0.17  电磁波吸收材料的反射性能，在其他情况不变的情况下，与电磁波投射到材料表面的入射角度关系密切。通常吸波材料提供的是垂直投射界面状态下的反射性能。暗室工程技术特别要重视投射角度的变化所引起的材料反射性能的变化。