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4.1 微电子与集成电路


4.1.1 微电子技术 micro-electronics technology
    微小型电子元器件、元件和电路的研制、生产技术,以及实现预定电子系统功能的技术。
4.1.2 集成电路 integrated circuits(IC)
    通过一系列的特定半导体工艺或薄膜、厚膜加工工艺,将晶体管、二极管、电阻、电容等多个电子元件集成在一个衬底上,构成完整的、具有一定功能的电路或系统。
4.1.3 MOS集成电路 metal-oxide-semiconductor integrated circuits(MOSIC)
    以金属-氧化物-半导体场效应晶体管为主要元件构成的集成电路。
4.1.4 CMOS集成电路 complementary metal-oxide-semiconductor integrated circuits(CMOSIC)
    以P型沟道的NMOS晶体管和以N型沟道的PMOS晶体管互补构成的集成电路。
4.1.5 BiCMOS集成电路 bipolar complementary metal oxide semiconductor integrated circuits
    由双极型门电路和互补金属-氧化物-半导体门电路共同构成的集成电路。
4.1.6 半导体整流器 semiconductor rectifier
    由一个或者多个半导体PN结组成,用于将交流电流变成直流电流的装置。
4.1.7 晶体管 transistor
    对信号有放大和开关等作用、有三个或四个电极的半导体器件。
4.1.8 可控硅整流管 silicon controlled rectifier(SCR)
    由三个PN结的PNPN四层结构硅芯片及三个电极组成的半导体整流或开关器件。
4.1.9 半导体光电子器件 semiconductor photoelectronic device
    利用半导体的光电效应将光能转换成电能的器件。
4.1.10 砷化镓光耦合器件 GaAs light coupled device
    以砷化镓做成的光耦合器件。
4.1.11 光电晶体管 phototransistor
    把光电二极管和放大器集成在一个硅片上的光电器件。
4.1.12 红外探测器 infrared detector
    将入射的红外辐射信号转变成电信号输出的器件。
4.1.13 光电池 photocell
    在光的照射下产生电动势的器件。又称光生伏打电池。
4.1.14 发光二极管 light emitting diode(LED)
    由一个PN结组成,具有单向导电性,可把电能转化成光能的一种半导体二极管。
4.1.15 线宽 critical dimension
    所加工的集成电路图形中的最小物理尺寸,是表述集成电路工艺的关键尺寸。又称最小特征尺寸。
4.1.16 硅片 wafer
    用半导体材料制成的单晶硅圆片。

条文说明
4.1.1 微电子技术
    微型电子电路技术的简称,是现代信息技术的基础。
4.1.2 集成电路
    分为小规模(SSI)、中规模(MSI)、大规模(LSI)、超大规模(VLSI)及特大规模(ULSI)集成电路。
4.1.3 MOS集成电路
    具有功耗低、集成度高等特点,宜用作数字集成电路。
4.1.4 CMOS集成电路
    具有微功耗、高噪声容限、宽工作电压范围、高逻辑摆幅、高输入阻抗、高扇出能力、低输入电容、宽工作温度范围等特点。
4.1.5 BiCMOS集成电路
    特点是将双极(bipolar)工艺和CMOS工艺兼容,在同一芯片上以一定的电路形式将双极型电路和CMOS电路集成在一起,兼有高密度、低功耗和高速大驱动能力等特点,可制造出性能优良的模/数混合电路。
4.1.6 半导体整流器
    通常使用硒、氧化亚铜、锗、硅等半导体材料。
4.1.7 晶体管
    包括结型晶体管和场效应晶体管。具有检波、整流、放大、开关、稳压、信号调制等功能。
4.1.8 可控硅整流管
    在正向工作时是一种双稳态器件。三个电极分别称为阳极(A)、阴极(K)和控制极(G)。
4.1.10 砷化镓光耦合器件
    光耦合器(optical coupler,OC)亦称光电隔离器,简称光耦。OC以光为媒介传输电信号,对输入、输出电信号有良好的隔离作用,在各种电路中被广泛应用。OC一般由光的发射、光的接收及信号放大三部分组成。
4.1.11 光电晶体管
    主要分为双极型光晶体管、场效应光晶体管。
4.1.12 红外探测器
    一个红外探测器至少有一个对红外辐射产生敏感效应的物体,称为响应元。此外,还包括响应元的支架、密封外壳和透红外辐射的窗口。有时还包括制冷部件、光学部件和电子部件等。
4.1.14 发光二极管
    包括红光、绿光、黄光、蓝光、白光等发光二极管。
4.1.15 线宽
    也称为关键尺寸,是定义IC工艺先进水平和制造复杂性水平的主要指标。
4.1.16 硅片
    按其直径分为4英寸、5英寸、6英寸、8英寸等规格,近来发展出12英寸甚至更大规格。
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