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5.5 防日光直射和紫外线照射
5.5.1 档案库、档案阅览、展览厅及其他技术用房应防止日光直接射入,并应避免紫外线对档案、资料的危害。
5.5.2 档案库、档案阅览、展览厅及其他技术用房的人工照明应选用紫外线含量低的光源。当紫外线含量超过75μW/lm时,应采取防紫外线的措施。
条文说明
5.5.1 避免阳光直射和减少紫外线对档案的影响。光特别是太阳光对于档案纸张和某些字迹有很大的破坏作用。有资料介绍,光波短于486nm的光线即可以断裂C—C键,短于358nm的光线(紫外线)即可断裂有机物分子的线性饱和链。
5.5.2 本条规定了档案库、档案阅览、展览厅及其他技术用房的人工照明应选用紫外线含量低的光源,尽量避免或降低人工光源的紫外线对档案造成危害。当紫外线含量超过75μW/lm时,应采取防紫外线的措施;实际上,档案在展出、阅览或技术处理时,暴露在灯光下的时间更长,更应采取保护措施。
“75μW/lm”的最高限值是参考了国际标准IS0 11799:2003(E)以及博物馆、图书馆等部门相关标准而制定。
5.5.2 本条规定了档案库、档案阅览、展览厅及其他技术用房的人工照明应选用紫外线含量低的光源,尽量避免或降低人工光源的紫外线对档案造成危害。当紫外线含量超过75μW/lm时,应采取防紫外线的措施;实际上,档案在展出、阅览或技术处理时,暴露在灯光下的时间更长,更应采取保护措施。
“75μW/lm”的最高限值是参考了国际标准IS0 11799:2003(E)以及博物馆、图书馆等部门相关标准而制定。
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