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5.1 含氰废水


5.1.1  化学法处理含氰废水宜采用碱性氯化法,其废水中氰离子的浓度不宜大于50mg/L。

5.1.2  采用碱性氯化法处理含氰废水时,应避免铁、镍离子混入含氰废水处理系统。

5.1.3  碱性氯化法处理含氰废水应采用二级氧化处理,当受纳水体的水质许可时,可采用一级氧化处理。

5.1.4  采用二级氧化处理含氰废水时,可采用图5.1.4的基本工艺流程。第一级氧化和第二级氧化所需氧化剂应分阶段投加。

图5.1.4  二级氧化处理含氰废水的基本工艺流程

 ORP-氧化还原电位监测仪

5.1.5 采用一级氧化处理含氰废水时,可采用图5.1.5的基本工艺流程。采用间歇式处理,当设置两格反应沉淀池交替使用时,可不设调节池。

图5.1.5  一级氧化处理含氰废水的基本工艺流程

ORP-氧化还原电位监测仪

5.1.6  含氰废水经氧化处理后,应根据其含其他污染物的情况进行后续处理。 

5.1.7  处理含氰废水的氧化剂可采用次氯酸钠、漂白粉和二氧化氯等。氧化剂的投入量应通过氧化还原电位控制;也可按氰离子与活性氯的质量比计算确定,采用一级氧化处理时,质量比宜为1:3~1:4;采用二级氧化处理时,质量比宜为1:7~1: 8。

5.1.8  采用一级氧化处理含氰废水时,当采用次氯酸钠、漂白粉作氧化剂,反应过程pH值宜控制为10~11,当采用二氧化氯作氧化剂,反应过程pH值宜控制为11~11.5;当采用次氯酸钠、二氧化氯作氧化剂,反应时间宜为10min~15min,当采用漂白粉干投时,反应时间宜为30min~40min。采用二级氧化处理含氰废水,第二级氧化反应过程pH值宜控制为6.5~7.0,反应时间宜为10min~15min。

5.1.9  连续处理含氰废水时,反应pH值的控制和氧化剂的投药量应采用在线自动监控和自动加药系统,第一级氧化阶段氧化还原电位应为300mV~350mV,第二级氧化阶段氧化还原电位应为600mV~700mV。

5.1.10  反应池应采取防止有害气体逸出的封闭和通风措施。

条文说明

5.1.1  当废水中氰离子的浓度在50mg/L以上时,氧化剂投加量较高,不经济,一般应回收制成副产品,如黄血盐、赤血盐等。

5.1.2  含氰废水中混入镍,会形成络合物,致使投药量增加3.5倍~7。5倍,而且需要较长时间(24h)才能分解;铁盐会使水中氰化物变成亚铁氰化物而不易分解,因此本条规定含氰废水处理时应避免混入铁离子和镍离子。

5.1.3  碱性氯化法处理氰化物分为两个阶段,第一阶段是将氰化物分解为氰酸盐,即一级氧化(局部氧化),第二阶段是将生成的氰酸盐进一步氧化成二氧化碳和氮气,即二级氧化阶段(完全氧化)。一级氧化产物氰酸盐毒性仅是氰化物的千分之一,但氰酸盐水解生成的氨将对水产资源危害很大,现行国家标准《电镀污染物排放标准》GB 21900规定氨氮排放浓度为15mg/L,特别排放限值为8mg/L,因此,本规范规定采用一级氧化时,要根据受纳水体的水质条件确定。

5.1.6  含氰废水破氰后应对重金属离子进行后续处理,使废水符合国家排放标准要求。

5.1.7  本条规定了氧化剂的选择和氧化剂的投加量。

    各种氧化剂的适用范围及优缺点比较见表7。

表7  各种氧化剂的适用范围及优缺点比较

     氧化剂的投加量:

    简单氰化物(如NaCN、KCN)的理论投药量是固定的,而络合氰化物的理论投药量则是变化的,不但随所络合的金属而变,也随合物的配位数而变,如四氰合锌[Zn(CN)4]2完全氧化的理论投药比(质量比)为CN:C12=1:7.18,四氰合铜[Cu(CN)4]2的理论投药比(质量比)为CN:C12=1:7.38,另外,氰化镀液内尚含有其他络合剂,如氰化镀铜液中可能含有酒石酸盐和硫氰酸盐,还有其他杂质,又如氰化镀锌液内有铁离子,氰化镀银液内有铜离子等也形成络合物,所以要进行理论计算比较复杂。总之,一般氰化物的投药比要高于简单氰化物。实践中投药比见表8。

表8  含氰废水投药比(氰化物:活性氯的质量比)

     药剂中含活性氯的百分比,漂白粉为36%,次氯酸钠为8%,二氧化氯为260%。

    故本条规定投药量质量比(氰化物:活性氯)为:当一级氧化处理时宜为1:3~1:4,两级氧化处理时宜为1:7~1:8。

5.1.8  一级氧化处理时,由于生成的氰酸盐在酸性条件下不稳定,易挥发致毒,因此反应时废水的pH值应控制在10~11;当采用二氧化氯作氧化剂时,二氧化氯先和碱液生成次氯酸盐,需要消耗部分碱液,因此pH值应控制在11~11.5。二级氧化阶段的关键在于控制pH值,pH值大于或等于12时,2CNO+3C1O+H2O→2CO2+N2+3C1+2OH反应几乎停止,pH值过低时氰酸根会水解生成有毒的氯胺,并影响其他金属离子的处理。因此二级氧化阶段宜控制pH值为6.5~7.0,并用稀硫酸调节,防止副反应发生。

5.1.9  连续处理含氰废水时,控制废水的pH值和氧化剂的投加量是破氰的关键,因此,采用pH计和氧化还原电位计在线监测以及采用自动加药系统才能保证废水处理投药量的准确和稳定,避免人为因素的影响,保证破氰完全。

    反应中氧化还原电位的控制应注意废水中氧化剂或还原剂的干扰,设备调试时应以氰化物达标状态下的氧化还原电位作为实际运行的控制参数。

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电镀废水治理设计规范 GB50136-2011
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