1 总则

1.0.1  本条阐述了编制本规范的目的和进行工程建设应遵守的基本原则。

    纯水的制备始于20世纪40年代，伴随着离子交换树脂的商业化生产而发展起来。传统的纯水以电导率为表征，主要关注于去除水中的电解质。随着集成电路工业、液晶显示器、太阳能产业和LED的迅猛发展，带动了纯水等支持系统的飞速发展。与传统的纯水相比，当代电子工业纯水不仅关注去除水中的溶解电解质，还关注于去除水中的有机物、溶解氧、细菌以及微小颗粒等杂质。特别是随着集成电路的集成度的不断提升，生产的工艺步骤越来越多，元件被重复清洗，对作为清洗介质的纯水的要求越来越高。如果纯水品质达不到要求，其本身对器件就是一种污染，更谈不上清洗。本规范的制定，旨在为电子工业纯水系统的设计工作提供较为系统的技术依据，推动电子工业纯水系统设计工作的发展。

1.0.2  电子工业纯水系统的设计必须遵守工程建设的基本原则。技术先进，是要求纯水系统设计科学，采用的制水工艺和设备先进、高效、成熟。安全适用，是要求纯水系统稳定可靠，满足生产需求。经济合理，则是要在保证安全可靠、技术先进的前提下，节省工程投资费用和日常运行维护成本。操作方便，是要满足日常操作运行、检修维护的便利和快捷的需求。

1.0.3  电子工业的集成电路工厂和TFT-LCD工厂等都是用水大户，同时这类工厂在生产过程中使用大量的化学品。其在为社会创造价值的同时，也必然耗费大量的水资源，并且带来废物排放的问题。随着人们对工业的发展所带来污染影响的越发重视，纯水系统的设计如何节水和如何减少污染物排放是当今电子工业纯水系统设计和建设所必须要面对的问题。如何减少化学品的使用和如何提高水的利用率是系统设计必须要解决的问题。未来的电子工业纯水系统肯定是化学品使用尽可能少，系统回收率尽可能高的系统。减少资源占用、环境友好的“绿色”的纯水系统是必然的发展趋势。