目 录 上一节 下一节 查 找 检 索 手机阅读 总目录 问题反馈
3.2 技术设备
3.2.1 工艺技术应根据芯片互联及封装的类型确定,并应具有扩展的灵活性。
3.2.2 工艺设计应明确技术设备的各种工艺条件,做到投资省、运行费用低。
3.2.3 生产设备的选择应符合下列规定:
1 设备选择应根据产品类型及产能要求确定各工序设备数量;
2 生产设备自动化程度应适应产能的要求;
3 生产设备应适应连续运行的要求。
3.2.1 集成电路封装技术发展十分迅速,封装不仅起到集成电路芯片内键合点与外部进行电气连接的作用,也为集成电路芯片起到机械或环境保护的作用,从而集成电路芯片能够发挥正常的功能,并保证其具有高稳定性和可靠性。
由于集成电路的集成度越来越高,功能越来越复杂。相应地要求集成电路封装密度越来越大,引线数越来越多,而体积越来越小,重量越来越轻,更新换代越来越快,封装结构类型的合理性和科学性将直接影响集成电路的质量。
20世纪80年代之前主要封装形式为通孔插装,以TO型封装和双列直插封装为代表,集成电路的功能数不高,引线脚数较小,不多于64。80年代后进入表面贴装时代,以小外形封装(SOP)和四边引脚扁平封装(QFP)为代表,大大提高了引脚数和组装密度,最大引脚数达300。同时塑封外形也分为方形扁平型和小型外壳型。90年代后,球栅阵列(BGA)封装和芯片尺寸封装(CSP)发展迅速,这一阶段主要封装类型有BGA、CSP、WLCSP和SIP等。主要特点是加宽了引脚间距并采用底部安装引脚的形式,大大促进了安装技术的进步和生产效率的提高。通常CSP都是将晶圆切割成单个IC芯片后再实施后道封装,而WLCSP的工序基本上完全在已完成前工序的晶圆上完成,最后才将晶圆切割成分离的独立电路。90年代末,进入了三维堆叠(3D)封装时代,通过在垂直方向上将多层平面器件堆叠起来,并采用硅通孔技术在垂直方向实现通孔互连的系统级集成,这样可以减少封装的尺寸和重量,并可以将不同技术集成在同一封装中,缩短了互连从而加快了信号传递速度,降低了寄生效应和功耗。
据《国际半导体技术路线图》ITRS 2012版的预测,TSV及3D集成在晶圆厚度、硅通孔直径、对准精度等继续向微细化方向发展。详见下表:
表1 TSV及3D集成晶圆技术规格预测表
3.2.3 集成电路封装测试工厂的产品的品种较多,产能需求各不相同,而且变化较快,因此在设备种类及数量上需综合考虑,并具有一定的灵活性。对于产能较大的封装测试厂,生产设备需要较高的自动化程度以及较高的运行稳定性。
说明 返回
顶部
目录导航
- 前言
- 1 总则
- 2 术语
- 3 工艺设计
- 3.1 一般规定
- 3.2 技术设备
- 3.3 工艺布局
- 4 厂址选择及布局
- 4.1 厂址选择
- 4.2 总平面布局
- 5 建筑与结构
- 5.1 建筑
- 5.2 结构
- 5.3 防火与疏散
- 6 给排水与消防
- 6.1 给排水
- 6.2 工艺循环冷却水系统
- 6.3 消防给水和灭火设备
- 7 电 气
- 7.1 供配电
- 7.2 照明
- 7.3 接地
- 7.4 防静电
- 7.5 通信与安全保护
- 8 净化空调及工艺排风
- 8.1 净化空调
- 8.2 冷热源
- 8.3 工艺排风
- 9 纯水与废水处理
- 9.1 纯水
- 9.2 废水处理
- 10 气体与真空
- 10.1 大宗气体
- 10.2 干燥压缩空气
- 10.3 真空
- 附录A 集成电路封装测试厂工艺流程
- 引用标准名录
-
笔记需登录后才能查看哦~