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6.5 半导体材料制备
6.5.1 制备多晶硅产生的废触媒应按危险废物安全处置，硅渣、水解物及废水中和渣应按一般工业固体废物贮存。
6.5.2 氯化锗蒸馏残渣应综合利用。
条文说明
6.5.1 制备多晶硅过程产生的废触媒(即废镍粉)，被列入《国家危险废物名录》，定性为危险废物。硅渣、水解物(二氧化硅浮渣)石灰中和渣以及污水处理渣的主要成分为氯化钙，定性为一般工业固体废物，应当堆存在按相关标准建设的贮存场内。
6.5.2 锌系统的焙砂酸浸液净化产生的含镉渣经氯化、蒸馏后残留的氯化锗蒸馏残渣应当综合利用，将其返回锌系统的烟化炉处理可进一步回收镉。
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- 1 总则
- 2 术语
- 3 基本规定
- 4 大气污染防治
- 4.1 一般规定
- 4.2 采矿与选矿
- 4.3 重有色金属冶炼
- 4.4 轻金属冶炼
- 4.5 半导体材料制备
- 4.6 稀有金属及产品制备
- 4.7 有色金属加工
- 4.8 有色金属再生
- 5 水污染防治
- 5.1 一般规定
- 5.2 采矿与选矿
- 5.3 重有色金属冶炼
- 5.4 轻金属冶炼
- 5.5 半导体材料制备
- 5.6 稀有金属及产品制备
- 5.7 有色金属加工
- 5.8 有色金属再生
- 6 固体废物污染防治
- 6.1 一般规定
- 6.2 采矿与选矿
- 6.3 重有色金属冶炼
- 6.4 轻金属冶炼
- 6.5 半导体材料制备
- 6.6 稀有金属及产品制备
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- 6.8 有色金属再生
- 7 噪声污染防治
- 8 环境监测
- 附录A 初步设计文件环境保护篇主要内容及深度要求
- A.1 主要内容
- A.2 基本要求
- A.3 设计深度要求
- 附录B 有色金属工业环境保护设施划分
- 附录C 构筑物及场地防渗要求
- C.1 车间防渗要求
- C.2 水池、水沟防渗要求
- C.3 处置场防渗要求
- C.4 防渗材料及铺设基本要求
- 附录D 有色金属企业环境监测站
- 本规范用词说明
- 引用标准名录
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